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Présentation de nos cibles de pulvérisation en silicium (Si) – la quintessence de l'excellence en matière de cibles de pulvérisation, de sources d'évaporation et d'autres matériaux de dépôt.Fabriquées avec la plus grande précision et conçues pour répondre aux normes industrielles les plus élevées, nos cibles de pulvérisation de silicium sont le choix idéal pour vos processus de dépôt de couches minces.
Nos cibles de pulvérisation de silicium sont fabriquées à l'aide d'une technologie de pointe, garantissant une pureté et une uniformité exceptionnelles.Avec un ton professionnel, nous garantissons que nos produits offriront des performances constantes et fiables, ce qui les rend parfaits pour une large gamme d'applications.
Dotées d'une durabilité inégalée, nos cibles de pulvérisation en silicium sont conçues pour résister à une utilisation rigoureuse, garantissant des performances durables et minimisant les temps d'arrêt.Leur conductivité thermique exceptionnelle et leur point de fusion élevé les rendent très efficaces et idéaux pour diverses techniques de dépôt, notamment la pulvérisation magnétron et l'évaporation thermique.
Notre engagement envers la qualité se reflète dans tous les aspects de nos cibles de pulvérisation de silicium.Nous contrôlons méticuleusement le processus de fabrication pour garantir une pureté exceptionnelle, garantissant un minimum d'impuretés et de défauts.Les dimensions précises et la finition de surface de nos cibles permettent un dépôt de film optimal, résultant en une qualité de film mince supérieure.
Que vous soyez dans l'industrie des semi-conducteurs, des revêtements optiques ou des cellules solaires, nos cibles de pulvérisation en silicium sont le choix parfait pour vos besoins de dépôt de couches minces.Faites confiance à nos produits de qualité professionnelle pour améliorer vos processus de fabrication et obtenir des résultats exceptionnels.
Investissez dès aujourd’hui dans nos cibles de pulvérisation de silicium et découvrez le summum de l’excellence en matière de cibles de pulvérisation, de sources d’évaporation et d’autres matériaux de dépôt.Contactez-nous dès maintenant pour discuter de vos besoins et découvrir comment nos produits peuvent révolutionner vos processus de dépôt de couches minces.
Spécifications du silicium (Si) :
type de materiau | Silicium |
Symbole | Si |
Poids atomique | 28.0855 |
Numéro atomique | 14 |
Couleur/apparence | Gris foncé avec un bleuté Teinte, semi-métallique |
Conductivité thermique | 150 W/mK |
Point de fusion (°C) | 1 410 |
Résistivité globale | >1 OHM-CM |
Coefficient thermique Expansion | 2,6 x 10-6/K |
Densité théorique (g/cc) | 2.32 |
Dopant | Non dopé |
Rapport Z | 0.712 |
Pulvérisation | RF |
Densité de puissance maximale (Watts/pouce carré) | 20* |
Type de caution | Indium, élastomère |
commentaires | Alliages avec W ;utiliser un W lourd bateau.SiO produit. |
Présentation de nos cibles de pulvérisation en silicium (Si) – la quintessence de l'excellence en matière de cibles de pulvérisation, de sources d'évaporation et d'autres matériaux de dépôt.Fabriquées avec la plus grande précision et conçues pour répondre aux normes industrielles les plus élevées, nos cibles de pulvérisation de silicium sont le choix idéal pour vos processus de dépôt de couches minces.
Nos cibles de pulvérisation de silicium sont fabriquées à l'aide d'une technologie de pointe, garantissant une pureté et une uniformité exceptionnelles.Avec un ton professionnel, nous garantissons que nos produits offriront des performances constantes et fiables, ce qui les rend parfaits pour une large gamme d'applications.
Dotées d'une durabilité inégalée, nos cibles de pulvérisation en silicium sont conçues pour résister à une utilisation rigoureuse, garantissant des performances durables et minimisant les temps d'arrêt.Leur conductivité thermique exceptionnelle et leur point de fusion élevé les rendent très efficaces et idéaux pour diverses techniques de dépôt, notamment la pulvérisation magnétron et l'évaporation thermique.
Notre engagement envers la qualité se reflète dans tous les aspects de nos cibles de pulvérisation de silicium.Nous contrôlons méticuleusement le processus de fabrication pour garantir une pureté exceptionnelle, garantissant un minimum d'impuretés et de défauts.Les dimensions précises et la finition de surface de nos cibles permettent un dépôt de film optimal, résultant en une qualité de film mince supérieure.
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Spécifications du silicium (Si) :
type de materiau | Silicium |
Symbole | Si |
Poids atomique | 28.0855 |
Numéro atomique | 14 |
Couleur/apparence | Gris foncé avec un bleuté Teinte, semi-métallique |
Conductivité thermique | 150 W/mK |
Point de fusion (°C) | 1 410 |
Résistivité globale | >1 OHM-CM |
Coefficient thermique Expansion | 2,6 x 10-6/K |
Densité théorique (g/cc) | 2.32 |
Dopant | Non dopé |
Rapport Z | 0.712 |
Pulvérisation | RF |
Densité de puissance maximale (Watts/pouce carré) | 20* |
Type de caution | Indium, élastomère |
commentaires | Alliages avec W ;utiliser un W lourd bateau.SiO produit. |
