État de disponibilité: | |
---|---|
Quantité: | |
TN
matériaux pour le dépôt de couches minces dans diverses industries telles que l'électronique, l'optique et les cellules solaires.
Présentation de nos cibles de pulvérisation en nickel-chrome (NiCr) de haute qualité, conçues pour répondre aux exigences exigeantes des processus de dépôt de couches minces.Ces cibles sont méticuleusement fabriquées à l’aide de techniques de fabrication avancées, garantissant une pureté et une uniformité exceptionnelles.
Nos cibles de pulvérisation NiCr offrent des performances exceptionnelles, ce qui les rend idéales pour les applications dans les secteurs de l'électronique, de l'optique et des cellules solaires.Grâce à leur excellente stabilité thermique et conductivité électrique, ils permettent un dépôt de couches minces précis et efficace.
Ces cibles sont compatibles avec une large gamme de systèmes de pulvérisation et peuvent être personnalisées pour répondre aux exigences spécifiques des clients.Nous proposons une variété de tailles et de formes, notamment des disques, des rectangles et des cibles rotatives, pour s'adapter à différentes configurations de dépôt.
Avec nos cibles de pulvérisation NiCr, vous pouvez obtenir des films minces très uniformes et adhérents, garantissant une qualité et une fiabilité supérieures dans vos processus de dépôt.Leur pureté exceptionnelle et leur composition contrôlée garantissent des résultats homogènes, réduisant les risques de défauts et améliorant les performances globales.
En plus des cibles de pulvérisation, nous proposons également une gamme complète de sources d'évaporation et d'autres matériaux de dépôt.Notre expertise en matière de dépôt de couches minces nous permet de proposer des solutions sur mesure pour répondre à vos exigences uniques.
Choisissez nos cibles de pulvérisation en nickel-chrome (NiCr) pour vos besoins de dépôt de couches minces et bénéficiez de performances, de fiabilité et de précision exceptionnelles.Faites confiance à notre engagement à fournir des produits de haute qualité qui dépassent les normes de l'industrie.
type de materiau | Nichrome IV® |
Symbole | Ni/Cr |
Point de fusion (°C) | 1 395 |
Densité théorique (g/cc) | 8.5 |
Rapport Z | **1,00 |
Pulvérisation | CC |
Type de caution | Indium, élastomère |
commentaires | Alliages avec W/Ta/Mo. |
matériaux pour le dépôt de couches minces dans diverses industries telles que l'électronique, l'optique et les cellules solaires.
Présentation de nos cibles de pulvérisation en nickel-chrome (NiCr) de haute qualité, conçues pour répondre aux exigences exigeantes des processus de dépôt de couches minces.Ces cibles sont méticuleusement fabriquées à l’aide de techniques de fabrication avancées, garantissant une pureté et une uniformité exceptionnelles.
Nos cibles de pulvérisation NiCr offrent des performances exceptionnelles, ce qui les rend idéales pour les applications dans les secteurs de l'électronique, de l'optique et des cellules solaires.Grâce à leur excellente stabilité thermique et conductivité électrique, ils permettent un dépôt de couches minces précis et efficace.
Ces cibles sont compatibles avec une large gamme de systèmes de pulvérisation et peuvent être personnalisées pour répondre aux exigences spécifiques des clients.Nous proposons une variété de tailles et de formes, notamment des disques, des rectangles et des cibles rotatives, pour s'adapter à différentes configurations de dépôt.
Avec nos cibles de pulvérisation NiCr, vous pouvez obtenir des films minces très uniformes et adhérents, garantissant une qualité et une fiabilité supérieures dans vos processus de dépôt.Leur pureté exceptionnelle et leur composition contrôlée garantissent des résultats homogènes, réduisant les risques de défauts et améliorant les performances globales.
En plus des cibles de pulvérisation, nous proposons également une gamme complète de sources d'évaporation et d'autres matériaux de dépôt.Notre expertise en matière de dépôt de couches minces nous permet de proposer des solutions sur mesure pour répondre à vos exigences uniques.
Choisissez nos cibles de pulvérisation en nickel-chrome (NiCr) pour vos besoins de dépôt de couches minces et bénéficiez de performances, de fiabilité et de précision exceptionnelles.Faites confiance à notre engagement à fournir des produits de haute qualité qui dépassent les normes de l'industrie.
type de materiau | Nichrome IV® |
Symbole | Ni/Cr |
Point de fusion (°C) | 1 395 |
Densité théorique (g/cc) | 8.5 |
Rapport Z | **1,00 |
Pulvérisation | CC |
Type de caution | Indium, élastomère |
commentaires | Alliages avec W/Ta/Mo. |