Vous êtes ici: Maison / Des produits / Cible de pulvérisation / Cibles de pulvérisation de nickel (Ni)

Cibles de pulvérisation de nickel (Ni)

cibles de pulvérisation, sources d'évaporation et autres matériaux de dépôt
État de disponibilité:
Quantité:
facebook sharing button
twitter sharing button
line sharing button
wechat sharing button
linkedin sharing button
pinterest sharing button
whatsapp sharing button
sharethis sharing button
  • TN

Présentation de nos cibles de pulvérisation en nickel (Ni) de haute qualité, la solution ultime pour vos besoins de pulvérisation et de dépôt.Nos produits de qualité professionnelle sont méticuleusement conçus pour offrir des performances et une fiabilité exceptionnelles dans diverses applications.


Fabriquées avec précision, nos cibles de pulvérisation en nickel (Ni) sont spécialement conçues pour répondre aux exigences exigeantes des industries des semi-conducteurs, de l'optique et des couches minces.Ces cibles sont idéales pour une utilisation dans les systèmes de pulvérisation cathodique, les sources d'évaporation et d'autres processus de dépôt.


Nos cibles de pulvérisation en nickel (Ni) offrent une pureté remarquable, garantissant une qualité et une uniformité optimales du film.Grâce à leur excellente conductivité thermique et à leur point de fusion élevé, ces cibles permettent un dépôt efficace et cohérent, aboutissant à des revêtements en couches minces de qualité supérieure.


Chez [Nom de l'entreprise], nous accordons la priorité à la qualité et à la satisfaction du client.Nos cibles de pulvérisation en nickel (Ni) sont soumises à des tests rigoureux et à des procédures de contrôle qualité pour garantir leur durabilité et leurs performances.Nous comprenons le caractère critique de vos processus de dépôt, c'est pourquoi nous nous efforçons de vous fournir des matériaux de la plus haute qualité.


Que vous soyez en phase de recherche et développement ou engagé dans une production à grande échelle, nos cibles de pulvérisation en nickel (Ni) sont le choix parfait pour réaliser un dépôt de couche mince précis et fiable.Faites confiance à notre expertise et à notre expérience pour améliorer vos processus de fabrication et rehausser vos produits finaux.


Choisissez [Nom de l'entreprise] pour vos cibles de pulvérisation, sources d'évaporation et autres matériaux de dépôt, et découvrez la différence de travailler avec un partenaire industriel de confiance.Contactez-nous dès aujourd'hui pour discuter de vos besoins spécifiques et laissez notre équipe de professionnels vous aider à trouver la solution parfaite pour vos besoins de dépôt.

type de materiau

Nickel †

Symbole

Ni

Poids atomique

58.6934

Numéro atomique

28

Couleur/apparence

Brillant, métallique, argenté   Teinte

Conductivité thermique

91 W/mK

Point de fusion (°C)

1 453

Coefficient thermique   Expansion

13,4 x 10-6/K

Densité théorique (g/cc)

8.91

Ferromagnétique

Matériau magnétique

Rapport Z

0.331

Pulvérisation

CC

Densité de puissance maximale

(Watts/pouce carré)

50*

commentaires

Alliages avec W/Ta/Mo.Lisse   films adhérents.


sur: 
En vertu d'un: 
DEMANDE DE PRODUIT
Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.
Qui est un fabricant spécialisé dans la production d'instruments scientifiques de laboratoire.Nos produits sont largement utilisés dans les collèges, les instituts de recherche et les laboratoires.

LIENS RAPIDES

CONTACTEZ-NOUS

+86-371-5536-5392
+86-185-3800-8121
Salle 401, 4e étage, bâtiment 5, nouvelle ville technologique de Zhengzhou Yida, rue Jinzhan, zone de haute technologie, ville de Zhengzhou
Droits d'auteur © 2023 Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.|Soutenu par leadong.com