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Cibles de pulvérisation de bore (B)

cibles de pulvérisation, sources d'évaporation et autres matériaux de dépôt
État de disponibilité:
Quantité:
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  • TN

Présentation de nos cibles de pulvérisation au bore (B) - la quintessence de l'excellence en matière de cibles de pulvérisation, de sources d'évaporation et d'autres matériaux de dépôt.


Fabriquées avec précision et conçues pour répondre aux normes industrielles les plus élevées, nos cibles de pulvérisation au bore (B) sont le choix idéal pour une large gamme d'applications.


Avec une pureté et une uniformité exceptionnelles, nos cibles de pulvérisation garantissent des performances optimales et des résultats cohérents.Les matériaux de haute qualité utilisés dans leur production garantissent une durabilité et une fiabilité durables, ce qui en fait un investissement rentable pour vos projets.


Nos cibles de pulvérisation de bore (B) sont méticuleusement conçues pour offrir des taux de dépôt exceptionnels, permettant des revêtements de couches minces efficaces et précis.Que vous travailliez dans les industries des semi-conducteurs, de l'optique ou du solaire, nos cibles de pulvérisation sont adaptées pour répondre à vos besoins spécifiques.


Soutenues par notre engagement envers la qualité, nos cibles de pulvérisation de bore (B) sont soumises à des tests rigoureux et à des mesures de contrôle qualité pour garantir qu'elles répondent aux spécifications les plus strictes.Avec nos produits, vous pouvez être sûr que vos processus de dépôt seront effectués avec la plus grande précision et efficacité.


Choisissez nos cibles de pulvérisation au bore (B) pour des performances et une fiabilité inégalées.Améliorez vos processus de dépôt de couches minces grâce à nos produits leaders du secteur.Découvrez la différence de qualité et de précision que nos cibles de pulvérisation apportent à vos projets.

Spécifications des cibles de pulvérisation de bore (B) :

type de materiau

Bore

Symbole

B

Poids atomique

10.811

Numéro atomique

5

Couleur/apparence

Noir,   Semi-métallique

Conductivité thermique

27 W/mK

Point de fusion (°C)

2 079

Coefficient thermique   Expansion

6 x 10-6/K

Densité théorique (g/cc)

2.34

Rapport Z

0.389

Pulvérisation

FR

Densité de puissance maximale

(Watts/pouce carré)

20*

Type de caution

Indium

commentaires

Explose avec   refroidissement rapide.Forme du carbure avec le récipient.


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En vertu d'un: 
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Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.
Qui est un fabricant spécialisé dans la production d'instruments scientifiques de laboratoire.Nos produits sont largement utilisés dans les collèges, les instituts de recherche et les laboratoires.

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