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Présentation de nos cibles de pulvérisation d'or (Au) haut de gamme - la quintessence de l'excellence en matière de dépôt de couches minces.Avec une large gamme de cibles de pulvérisation, de sources d'évaporation et d'autres matériaux de dépôt, nos produits sont méticuleusement conçus pour répondre aux exigences élevées de l'industrie.
Nos cibles de pulvérisation d'or (Au) sont conçues pour offrir des performances et une cohérence exceptionnelles dans divers processus de dépôt de couches minces.Fabriquées avec la plus grande précision, ces cibles offrent une pureté et une uniformité inégalées, garantissant des résultats optimaux à chaque fois.
Équipées d'une technologie de pointe, nos cibles de pulvérisation permettent un contrôle précis de l'épaisseur, de la composition et de la morphologie du film.Ce niveau de précision permet la création de films de haute qualité avec une excellente adhérence et une conductivité électrique améliorée.
En plus de nos cibles de pulvérisation d'or (Au), nous proposons une gamme complète de sources d'évaporation et d'autres matériaux de dépôt.Ces produits sont soigneusement sélectionnés et conçus pour compléter nos cibles de pulvérisation, offrant une solution complète pour vos besoins en matière de dépôt de couches minces.
Grâce à notre engagement envers la qualité et la fiabilité, nos cibles de pulvérisation d'or (Au), nos sources d'évaporation et autres matériaux de dépôt ont gagné la reconnaissance parmi les principaux chercheurs, ingénieurs et fabricants du monde entier.Faites confiance à nos produits pour élever vos processus de dépôt de couches minces vers de nouveaux sommets d’excellence.
Choisissez nos cibles de pulvérisation en or (Au) et découvrez le summum de la précision, de la performance et du professionnalisme dans le dépôt de couches minces.
Spécifications des cibles de pulvérisation d'or (Au) :
type de materiau | Or |
Symbole | Au |
Poids atomique | 196.9666 |
Numéro atomique | 79 |
Couleur/apparence | Or, Métallisé |
Conductivité thermique | 320 W/mK |
Point de fusion (°C) | 1 064 |
Coefficient thermique Expansion | 14,2 x 10-6/K |
Densité théorique (g/cc) | 19.32 |
Rapport Z | 0.381 |
Pulvérisation | CC |
Densité de puissance maximale (Watts/pouce carré) | 100* |
Type de caution | Indium, élastomère |
commentaires | Films doux ;pas très adhérent. |
Présentation de nos cibles de pulvérisation d'or (Au) haut de gamme - la quintessence de l'excellence en matière de dépôt de couches minces.Avec une large gamme de cibles de pulvérisation, de sources d'évaporation et d'autres matériaux de dépôt, nos produits sont méticuleusement conçus pour répondre aux exigences élevées de l'industrie.
Nos cibles de pulvérisation d'or (Au) sont conçues pour offrir des performances et une cohérence exceptionnelles dans divers processus de dépôt de couches minces.Fabriquées avec la plus grande précision, ces cibles offrent une pureté et une uniformité inégalées, garantissant des résultats optimaux à chaque fois.
Équipées d'une technologie de pointe, nos cibles de pulvérisation permettent un contrôle précis de l'épaisseur, de la composition et de la morphologie du film.Ce niveau de précision permet la création de films de haute qualité avec une excellente adhérence et une conductivité électrique améliorée.
En plus de nos cibles de pulvérisation d'or (Au), nous proposons une gamme complète de sources d'évaporation et d'autres matériaux de dépôt.Ces produits sont soigneusement sélectionnés et conçus pour compléter nos cibles de pulvérisation, offrant une solution complète pour vos besoins en matière de dépôt de couches minces.
Grâce à notre engagement envers la qualité et la fiabilité, nos cibles de pulvérisation d'or (Au), nos sources d'évaporation et autres matériaux de dépôt ont gagné la reconnaissance parmi les principaux chercheurs, ingénieurs et fabricants du monde entier.Faites confiance à nos produits pour élever vos processus de dépôt de couches minces vers de nouveaux sommets d’excellence.
Choisissez nos cibles de pulvérisation en or (Au) et découvrez le summum de la précision, de la performance et du professionnalisme dans le dépôt de couches minces.
Spécifications des cibles de pulvérisation d'or (Au) :
type de materiau | Or |
Symbole | Au |
Poids atomique | 196.9666 |
Numéro atomique | 79 |
Couleur/apparence | Or, Métallisé |
Conductivité thermique | 320 W/mK |
Point de fusion (°C) | 1 064 |
Coefficient thermique Expansion | 14,2 x 10-6/K |
Densité théorique (g/cc) | 19.32 |
Rapport Z | 0.381 |
Pulvérisation | CC |
Densité de puissance maximale (Watts/pouce carré) | 100* |
Type de caution | Indium, élastomère |
commentaires | Films doux ;pas très adhérent. |