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Cibles de pulvérisation d'indium (In)

cibles de pulvérisation, sources d'évaporation et autres matériaux de dépôt
État de disponibilité:
Quantité:
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Présentation de nos cibles de pulvérisation Indium (In) - la quintessence de l'excellence en matière de cibles de pulvérisation, de sources d'évaporation et d'autres matériaux de dépôt.


Fabriquées avec la plus grande précision et expertise, nos cibles de pulvérisation Indium (In) sont conçues pour répondre aux exigences exigeantes de diverses industries.


Ces cibles sont idéales pour une utilisation dans les processus de dépôt physique en phase vapeur (PVD), où des films minces sont déposés sur des substrats pour créer des revêtements de haute qualité.Nos cibles de pulvérisation d'indium (In) garantissent un dépôt uniforme et contrôlé, ce qui se traduit par une qualité de film supérieure et des performances améliorées.


D'une pureté et d'une uniformité exceptionnelles, nos cibles de pulvérisation Indium (In) garantissent des résultats cohérents et fiables.Ils sont méticuleusement fabriqués à l’aide de techniques avancées et de matériaux de haute qualité, garantissant durabilité et longévité.


Nos cibles de pulvérisation d'indium (In) sont largement utilisées dans des applications telles que la fabrication de semi-conducteurs, les revêtements optiques et la recherche sur les couches minces.Ils offrent une excellente adhérence, une densité élevée et une excellente conductivité thermique, ce qui en fait le choix privilégié pour diverses industries.


Lorsqu'il s'agit de matériaux de dépôt, nos cibles de pulvérisation Indium (In) témoignent de leur professionnalisme et de leur fiabilité.Faites confiance à nos produits pour offrir des performances exceptionnelles, une qualité impeccable et une précision inégalée.


Choisissez nos cibles de pulvérisation Indium (In) pour vos besoins de pulvérisation et d'évaporation, et découvrez le summum de l'excellence en matière de matériaux de dépôt.

Indium (In) Spécifications :

type de materiau

Indium

Symbole

In

Poids atomique

114.818

Numéro atomique

49

Couleur/apparence

Gris brillant argenté,   Métallique

Conductivité thermique

82 W/mK

Point de fusion (°C)

157

Coefficient thermique   Expansion

32,1 x 10-6/K

Densité théorique (g/cc)

7.3

Rapport Z

0.841

Pulvérisation

CC

Type de caution

Élastomère

commentaires

Mouille W et Cu.Utiliser Mo   doublure.Les matériaux à faible point de fusion ne sont pas idéaux pour la pulvérisation cathodique.


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En vertu d'un: 
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Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.
Qui est un fabricant spécialisé dans la production d'instruments scientifiques de laboratoire.Nos produits sont largement utilisés dans les collèges, les instituts de recherche et les laboratoires.

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