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Présentation de nos cibles de pulvérisation en argent (Ag) de haute qualité, conçues pour les applications avancées de dépôt de couches minces.Ces cibles de pulvérisation sont méticuleusement conçues pour répondre aux exigences exigeantes de diverses industries.
Fabriquées avec la plus grande précision, nos cibles de pulvérisation en argent (Ag) offrent des performances et une fiabilité exceptionnelles.En mettant l’accent sur la cohérence et la pureté, ces cibles garantissent un dépôt de film uniforme, ce qui donne lieu à une qualité supérieure de film mince.
Nos cibles de pulvérisation d'argent (Ag) sont spécialement conçues pour être compatibles avec divers systèmes de pulvérisation, permettant des processus de dépôt efficaces et précis.Que vous travailliez par pulvérisation magnétron ou par pulvérisation par faisceau d'ions, nos cibles garantissent des résultats optimaux.
En plus de nos cibles de pulvérisation, nous proposons également une large gamme de sources d'évaporation et d'autres matériaux de dépôt.Ces matériaux sont soigneusement sélectionnés et fabriqués pour garantir une excellente stabilité thermique et une compatibilité avec les différentes techniques de dépôt.
Notre engagement envers la qualité se reflète dans tous les aspects de nos produits.Des mesures rigoureuses de contrôle de qualité sont mises en œuvre tout au long du processus de fabrication, garantissant des performances et une fiabilité constantes.Chaque produit est minutieusement testé pour répondre aux normes industrielles les plus élevées.
Choisissez nos cibles de pulvérisation d'argent (Ag), nos sources d'évaporation et nos autres matériaux de dépôt pour vos besoins de dépôt de couches minces.Découvrez la qualité et la fiabilité exceptionnelles de nos produits.Faites confiance à notre expertise et laissez-nous être votre partenaire privilégié dans le monde du dépôt avancé de couches minces.
Argent (Ag) Spécifications :
type de materiau | Argent |
Symbole | Ag |
Poids atomique | 107.8682 |
Numéro atomique | 47 |
Couleur/apparence | Argent, Métallisé |
Conductivité thermique | 430 W/mK |
Point de fusion (°C) | 962 |
Coefficient thermique Expansion | 18,9 x 10-6/K |
Densité théorique (g/cc) | 10.5 |
Rapport Z | 0.529 |
Pulvérisation | CC |
Densité de puissance maximale (Watts/pouce carré) | 100* |
Type de caution | Indium, élastomère |
Présentation de nos cibles de pulvérisation en argent (Ag) de haute qualité, conçues pour les applications avancées de dépôt de couches minces.Ces cibles de pulvérisation sont méticuleusement conçues pour répondre aux exigences exigeantes de diverses industries.
Fabriquées avec la plus grande précision, nos cibles de pulvérisation en argent (Ag) offrent des performances et une fiabilité exceptionnelles.En mettant l’accent sur la cohérence et la pureté, ces cibles garantissent un dépôt de film uniforme, ce qui donne lieu à une qualité supérieure de film mince.
Nos cibles de pulvérisation d'argent (Ag) sont spécialement conçues pour être compatibles avec divers systèmes de pulvérisation, permettant des processus de dépôt efficaces et précis.Que vous travailliez par pulvérisation magnétron ou par pulvérisation par faisceau d'ions, nos cibles garantissent des résultats optimaux.
En plus de nos cibles de pulvérisation, nous proposons également une large gamme de sources d'évaporation et d'autres matériaux de dépôt.Ces matériaux sont soigneusement sélectionnés et fabriqués pour garantir une excellente stabilité thermique et une compatibilité avec les différentes techniques de dépôt.
Notre engagement envers la qualité se reflète dans tous les aspects de nos produits.Des mesures rigoureuses de contrôle de qualité sont mises en œuvre tout au long du processus de fabrication, garantissant des performances et une fiabilité constantes.Chaque produit est minutieusement testé pour répondre aux normes industrielles les plus élevées.
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Argent (Ag) Spécifications :
type de materiau | Argent |
Symbole | Ag |
Poids atomique | 107.8682 |
Numéro atomique | 47 |
Couleur/apparence | Argent, Métallisé |
Conductivité thermique | 430 W/mK |
Point de fusion (°C) | 962 |
Coefficient thermique Expansion | 18,9 x 10-6/K |
Densité théorique (g/cc) | 10.5 |
Rapport Z | 0.529 |
Pulvérisation | CC |
Densité de puissance maximale (Watts/pouce carré) | 100* |
Type de caution | Indium, élastomère |