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Présentation de notre cible de pulvérisation magnétron, une solution de pointe pour vos besoins de pulvérisation.Cette technologie avancée offre une pulvérisation magnétron circulaire, permettant une gamme polyvalente de cibles de pulvérisation.Que vous ayez besoin de matériaux métalliques, isolants ou magnétiques/non magnétiques, notre cible de pulvérisation magnétron est conçue pour tous les adapter.
Avec sa précision et son efficacité exceptionnelles, ce produit assure un processus de dépôt fluide et uniforme.La conception circulaire améliore l’uniformité de la pulvérisation, ce qui donne lieu à des films minces fiables et de haute qualité.Que vous soyez dans l'industrie des semi-conducteurs, de l'optique ou de l'électronique, notre cible de pulvérisation magnétron est le choix idéal pour vos applications de revêtement de couches minces.
Fabriquée avec la plus grande précision et utilisant des matériaux de pointe, notre cible de pulvérisation magnétron garantit des performances et une longévité exceptionnelles.Il est conçu pour résister à des conditions exigeantes et fournir des résultats cohérents, ce qui en fait un investissement fiable pour votre entreprise.
Découvrez la commodité et la polyvalence de notre cible de pulvérisation magnétron, car elle s'adapte sans effort à une large gamme de cibles de pulvérisation.Qu'il s'agisse de matériaux métalliques ou isolants, en passant par des matériaux magnétiques ou non magnétiques, ce produit offre une flexibilité sans précédent, garantissant que vos exigences spécifiques sont satisfaites avec la plus grande précision.
Choisissez notre cible de pulvérisation magnétron et élevez vos processus de pulvérisation vers de nouveaux sommets.Avec ses performances de qualité professionnelle et sa durabilité exceptionnelle, ce produit témoigne de notre engagement à fournir des solutions de premier ordre pour vos besoins en matière de revêtement de couches minces.Faites confiance à notre expertise et investissez dans l’avenir de votre entreprise avec notre cible de pulvérisation magnétron.
Paramètre du produit :
Code | Taper | Taille cible(pouce) | Structure de refroidissement par eau | Mode de décharge | puissance de radiofréquence（W） | Ajustement de la boîte assortie | Baffle | Balançoire angulaire |
CV-MST-01 | Cible non magnétique | 1 | Oui | radiofréquence et courant continu | 500 | Manuel et automatique | Avoir | Oui |
CV-MST-01M | Cible magnétique puissante | 1 | Oui | radiofréquence et courant continu | 500 | Manuel et automatique | Avoir | Oui |
CV-MST-02 | Cible non magnétique | 2 | Oui | radiofréquence et courant continu | 500 | Manuel et automatique | Avoir | Oui |
CV-MST-02M | Cible magnétique puissante | 2 | Oui | radiofréquence et courant continu | 500 | Manuel et automatique | Avoir | Oui |
CV-MST-03 | Cible non magnétique | 3 | Oui | radiofréquence et courant continu | 500 | Manuel et automatique | Avoir | Oui |
CV-MST-03M | Cible magnétique puissante | 3 | Oui | radiofréquence et courant continu | 500 | Manuel et automatique | Avoir | Oui |
Présentation de notre cible de pulvérisation magnétron, une solution de pointe pour vos besoins de pulvérisation.Cette technologie avancée offre une pulvérisation magnétron circulaire, permettant une gamme polyvalente de cibles de pulvérisation.Que vous ayez besoin de matériaux métalliques, isolants ou magnétiques/non magnétiques, notre cible de pulvérisation magnétron est conçue pour tous les adapter.
Avec sa précision et son efficacité exceptionnelles, ce produit assure un processus de dépôt fluide et uniforme.La conception circulaire améliore l’uniformité de la pulvérisation, ce qui donne lieu à des films minces fiables et de haute qualité.Que vous soyez dans l'industrie des semi-conducteurs, de l'optique ou de l'électronique, notre cible de pulvérisation magnétron est le choix idéal pour vos applications de revêtement de couches minces.
Fabriquée avec la plus grande précision et utilisant des matériaux de pointe, notre cible de pulvérisation magnétron garantit des performances et une longévité exceptionnelles.Il est conçu pour résister à des conditions exigeantes et fournir des résultats cohérents, ce qui en fait un investissement fiable pour votre entreprise.
Découvrez la commodité et la polyvalence de notre cible de pulvérisation magnétron, car elle s'adapte sans effort à une large gamme de cibles de pulvérisation.Qu'il s'agisse de matériaux métalliques ou isolants, en passant par des matériaux magnétiques ou non magnétiques, ce produit offre une flexibilité sans précédent, garantissant que vos exigences spécifiques sont satisfaites avec la plus grande précision.
Choisissez notre cible de pulvérisation magnétron et élevez vos processus de pulvérisation vers de nouveaux sommets.Avec ses performances de qualité professionnelle et sa durabilité exceptionnelle, ce produit témoigne de notre engagement à fournir des solutions de premier ordre pour vos besoins en matière de revêtement de couches minces.Faites confiance à notre expertise et investissez dans l’avenir de votre entreprise avec notre cible de pulvérisation magnétron.
Paramètre du produit :
Code | Taper | Taille cible(pouce) | Structure de refroidissement par eau | Mode de décharge | puissance de radiofréquence（W） | Ajustement de la boîte assortie | Baffle | Balançoire angulaire |
CV-MST-01 | Cible non magnétique | 1 | Oui | radiofréquence et courant continu | 500 | Manuel et automatique | Avoir | Oui |
CV-MST-01M | Cible magnétique puissante | 1 | Oui | radiofréquence et courant continu | 500 | Manuel et automatique | Avoir | Oui |
CV-MST-02 | Cible non magnétique | 2 | Oui | radiofréquence et courant continu | 500 | Manuel et automatique | Avoir | Oui |
CV-MST-02M | Cible magnétique puissante | 2 | Oui | radiofréquence et courant continu | 500 | Manuel et automatique | Avoir | Oui |
CV-MST-03 | Cible non magnétique | 3 | Oui | radiofréquence et courant continu | 500 | Manuel et automatique | Avoir | Oui |
CV-MST-03M | Cible magnétique puissante | 3 | Oui | radiofréquence et courant continu | 500 | Manuel et automatique | Avoir | Oui |
