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Machine de séchage par rotation à la lumière UV pour circuits imprimés, puces, emballage LED

La coucheuse par centrifugation peut recouvrir des matériaux liquides ou colloïdaux sur des tranches de silicium, des cristaux, du quartz, des céramiques et d'autres substrats pour former des films minces.Il est principalement utilisé dans le revêtement par rotation de résine photosensible, la préparation de milieux biologiques, la méthode sol-gel pour la production de films polymères, etc.
État de disponibilité:
Quantité:
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  • TN-SP8-UV

  • TN

Machine de séchage par rotation à la lumière UV pour circuits imprimés, puces et emballages LED

La coucheuse centrifuge TN-SP8-UV utilise la force centrifuge générée par une rotation à grande vitesse pour recouvrir le matériau du film.Ce modèle est équipé d'une source de lumière ultraviolette, qui peut réaliser la fonction de séchage de matériaux de film spéciaux.


Cette machine adopte un moteur sans balais à courant continu de précision, qui a une vitesse de démarrage rapide et une vitesse stable, ce qui garantit la cohérence et l'uniformité de l'épaisseur du revêtement.


L'échantillon est fixé par adsorption sous vide, facile à utiliser et peut être prélevé et placé librement.Des ventouses de différentes tailles peuvent être sélectionnées en fonction de la taille de l'échantillon. Il est également simple et pratique de remplacer le mandrin à vide.


Paramètres techniques de la coucheuse rotative à séchage à la lumière UV :


Modèle

TN-SP8-UV

Vitesse maximum

10 000 tr/min

Résolution de vitesse

1 tr/min

Temps de rotation maximum

3000S

Résolution du temps de rotation

1S

Accélération maximale

8000 tr/min/s

Longueur d'onde UV

365 nm

Taille de l'échantillon

≤8 pouces

Taille

290 mm (L) x 360 mm (P) x 370 mm (H)

Poids

20 kg

Entrée de puissance

AC200-230V, 600W

Exigences d'entrée de vide

0,06-0,09 MPa, débit de vide minimum 15 L/min ou plus.

Interface sous vide

Interface à vis rapide φ8 mm

Gaz de travail

Gaz non corrosifs tels que l'azote, l'argon, l'oxygène, etc.


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