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L' alimentation CC haute puissance pour coucheuse par pulvérisation magnétron est une source d'énergie contrôlée avec précision conçue pour les applications de pulvérisation CC continue et pulsée. Il fournit une sortie cohérente et fluide pour obtenir un dépôt de couches minces de haute qualité pour les semi-conducteurs, les MEMS et les laboratoires de recherche.
Avec une efficacité de conversion élevée, une ondulation ultra-faible et des fonctions de protection complètes, cette alimentation CC prend en charge les systèmes de pulvérisation cathodique unique et multi-cathode, offrant une uniformité de revêtement supérieure et une longue durée de vie de la cible.
| Paramètre | Spécification | Description |
|---|---|---|
| Puissance de sortie | 3 kW – 60 kW | Niveaux de puissance en option pour répondre aux diverses exigences du système |
| Tension de sortie | 0 – 1 200 V CC (réglable) | Large plage de tension pour différents matériaux cibles |
| Courant de sortie | 0 – 100 A (réglable) | Courant élevé pour la pulvérisation sur de grandes surfaces |
| Ondulation de sortie | ≤ 0,1% | Assure un plasma stable et une épaisseur de film uniforme |
| Mode de contrôle | Tension / Courant / Puissance | Options de contrôle flexibles |
| Protection | Surtension, surintensité, surchauffe, court-circuit | Protection de sécurité complète |
| Méthode de refroidissement | Refroidissement air/eau | Dissipation thermique efficace pour une utilisation à long terme |
| Interface | Analogique / RS-485 / Ethernet (en option) | Prend en charge l'automatisation et la surveillance à distance |
| Dimensions | Personnalisé | Configurations compactes, montées en rack ou autonomes |
Plages de puissance et configurations personnalisées disponibles sur demande.
Le contrôle PWM avancé garantit une sortie CC stable avec une ondulation minimale, maintenant des conditions de plasma constantes pendant le revêtement.
Adopte une technologie de commutation douce à haute fréquence avec une efficacité de conversion de puissance supérieure à 90 % , réduisant ainsi la perte d'énergie et la génération de chaleur.
La protection intégrée contre les surtensions, les surintensités et la surchauffe garantit la sécurité et la fiabilité lors d'une utilisation industrielle 24h/24 et 7j/7.
Convient à la pulvérisation pulsée , magnétron DC et à d'autres systèmes PVD. Compatible avec une large gamme de cibles et de chambres.
Équipé d'options de contrôle numérique et analogique, prenant en charge la communication informatique via RS-485 ou Ethernet et permettant l'enregistrement des données de processus et les diagnostics à distance.
La structure compacte avec une disposition modulaire permet une maintenance et une intégration faciles dans les systèmes de pulvérisation existants.
Cette alimentation CC haute puissance est idéale pour diverses applications de dépôt de couches minces, notamment :
Fabrication de semi-conducteurs – dépôt de films métalliques et diélectriques
Revêtements optiques – films minces à haute uniformité pour lentilles et filtres
Fabrication MEMS – pulvérisation de couches d'or, de titane ou d'aluminium
Ingénierie de surface – revêtements contre l'usure, la corrosion ou la conductivité
Recherche scientifique – laboratoires de science des matériaux et nanotechnologies
Compatible avec les machines de pulvérisation magnétron CoaterFilm et les systèmes de vide personnalisés.
Options de montage : rack standard 19 ' ou armoire personnalisée
Entrée d'alimentation : AC 380 V ±10 %, triphasé, 50/60 Hz
Interface de connexion : Plug-and-play avec cathodes de pulvérisation standard
Refroidissement : circulation forcée d'air ou d'eau ; assurer une bonne ventilation
Environnement : Température de fonctionnement 0–40°C, humidité ≤80 %
Suivez le manuel d'utilisation pour la mise à la terre et le blindage afin d'éviter les interférences électriques.
Assurez-vous que toutes les connexions sont correctement mises à la terre avant l'utilisation.
Augmentez progressivement la puissance de sortie pour atteindre le niveau de revêtement requis.
Vérifiez périodiquement les câbles, les ventilateurs et les conduites de refroidissement par eau.
Nettoyez l'extérieur de l'unité motrice et assurez-vous que la circulation de l'air est dégagée.
En cas de panne ou d'alarme, reportez-vous au guide de dépannage ou contactez le support technique.
Les modèles vont de 3 kW à 60 kW , en fonction des exigences de votre système de pulvérisation.
Oui, les modules optionnels permettent un fonctionnement CC pulsé pour les applications avancées à couches minces.
Les protections contre les surintensités, les surtensions, les surchauffes et les courts-circuits sont toutes standard.
Oui, CoaterFilm propose des configurations personnalisées d'interface de tension, de courant et de communication .
La garantie standard est de 12 mois , avec une assistance technique à vie disponible.
Plus de 15 ans d'expérience dans les systèmes de pulvérisation cathodique et de revêtement sous vide
Haute fiabilité et performances éprouvées dans les instituts de recherche mondiaux
Équipe technique professionnelle pour une conception personnalisée et une assistance sur site
Livraison rapide et service OEM/ODM flexible
Production et assurance qualité certifiées ISO
CoaterFilm est votre partenaire de confiance pour les équipements de précision pour couches minces et les solutions électriques.
Laboratoire de matériaux de l'université XYZ – Alimentation CC de 10 kW intégrée à une coucheuse par pulvérisation cathodique à double cathode, taux de dépôt amélioré de 25 %.
OptoTech Inc. – Unité haute puissance de 40 kW utilisée dans la ligne de revêtement optique, fonctionnement 24h/24 et 7j/7 avec zéro panne en 18 mois.
(Plus de cas de candidature disponibles sur demande.)
Garantie : 12 mois de couverture standard
Support technique : assistance par e-mail 24h/24 et 7j/7 et diagnostics à distance
Pièces de rechange : composants en stock pour un remplacement rapide
Manuels et ressources : téléchargez des fiches techniques détaillées et des manuels d'utilisation
CoaterFilm Vacuum Technology Co., Ltd.
Fabricant leader d'équipements de revêtement sous vide et de systèmes de pulvérisation.
Série d'alimentations certifiées ISO 9001 et approuvées CE.
L' alimentation CC haute puissance pour coucheuse par pulvérisation magnétron est une source d'énergie contrôlée avec précision conçue pour les applications de pulvérisation CC continue et pulsée. Il fournit une sortie cohérente et fluide pour obtenir un dépôt de couches minces de haute qualité pour les semi-conducteurs, les MEMS et les laboratoires de recherche.
Avec une efficacité de conversion élevée, une ondulation ultra-faible et des fonctions de protection complètes, cette alimentation CC prend en charge les systèmes de pulvérisation cathodique unique et multi-cathode, offrant une uniformité de revêtement supérieure et une longue durée de vie de la cible.
| Paramètre | Spécification | Description |
|---|---|---|
| Puissance de sortie | 3 kW – 60 kW | Niveaux de puissance en option pour répondre aux diverses exigences du système |
| Tension de sortie | 0 – 1 200 V CC (réglable) | Large plage de tension pour différents matériaux cibles |
| Courant de sortie | 0 – 100 A (réglable) | Courant élevé pour la pulvérisation sur de grandes surfaces |
| Ondulation de sortie | ≤ 0,1% | Assure un plasma stable et une épaisseur de film uniforme |
| Mode de contrôle | Tension / Courant / Puissance | Options de contrôle flexibles |
| Protection | Surtension, surintensité, surchauffe, court-circuit | Protection de sécurité complète |
| Méthode de refroidissement | Refroidissement air/eau | Dissipation thermique efficace pour une utilisation à long terme |
| Interface | Analogique / RS-485 / Ethernet (en option) | Prend en charge l'automatisation et la surveillance à distance |
| Dimensions | Personnalisé | Configurations compactes, montées en rack ou autonomes |
Plages de puissance et configurations personnalisées disponibles sur demande.
Le contrôle PWM avancé garantit une sortie CC stable avec une ondulation minimale, maintenant des conditions de plasma constantes pendant le revêtement.
Adopte une technologie de commutation douce à haute fréquence avec une efficacité de conversion de puissance supérieure à 90 % , réduisant ainsi la perte d'énergie et la génération de chaleur.
La protection intégrée contre les surtensions, les surintensités et la surchauffe garantit la sécurité et la fiabilité lors d'une utilisation industrielle 24h/24 et 7j/7.
Convient à la pulvérisation pulsée , magnétron DC et à d'autres systèmes PVD. Compatible avec une large gamme de cibles et de chambres.
Équipé d'options de contrôle numérique et analogique, prenant en charge la communication informatique via RS-485 ou Ethernet et permettant l'enregistrement des données de processus et les diagnostics à distance.
La structure compacte avec une disposition modulaire permet une maintenance et une intégration faciles dans les systèmes de pulvérisation existants.
Cette alimentation CC haute puissance est idéale pour diverses applications de dépôt de couches minces, notamment :
Fabrication de semi-conducteurs – dépôt de films métalliques et diélectriques
Revêtements optiques – films minces à haute uniformité pour lentilles et filtres
Fabrication MEMS – pulvérisation de couches d'or, de titane ou d'aluminium
Ingénierie de surface – revêtements contre l'usure, la corrosion ou la conductivité
Recherche scientifique – laboratoires de science des matériaux et nanotechnologies
Compatible avec les machines de pulvérisation magnétron CoaterFilm et les systèmes de vide personnalisés.
Options de montage : rack standard 19 ' ou armoire personnalisée
Entrée d'alimentation : AC 380 V ±10 %, triphasé, 50/60 Hz
Interface de connexion : Plug-and-play avec cathodes de pulvérisation standard
Refroidissement : circulation forcée d'air ou d'eau ; assurer une bonne ventilation
Environnement : Température de fonctionnement 0–40°C, humidité ≤80 %
Suivez le manuel d'utilisation pour la mise à la terre et le blindage afin d'éviter les interférences électriques.
Assurez-vous que toutes les connexions sont correctement mises à la terre avant l'utilisation.
Augmentez progressivement la puissance de sortie pour atteindre le niveau de revêtement requis.
Vérifiez périodiquement les câbles, les ventilateurs et les conduites de refroidissement par eau.
Nettoyez l'extérieur de l'unité motrice et assurez-vous que la circulation de l'air est dégagée.
En cas de panne ou d'alarme, reportez-vous au guide de dépannage ou contactez le support technique.
Les modèles vont de 3 kW à 60 kW , en fonction des exigences de votre système de pulvérisation.
Oui, les modules optionnels permettent un fonctionnement CC pulsé pour les applications avancées à couches minces.
Les protections contre les surintensités, les surtensions, les surchauffes et les courts-circuits sont toutes standard.
Oui, CoaterFilm propose des configurations personnalisées d'interface de tension, de courant et de communication .
La garantie standard est de 12 mois , avec une assistance technique à vie disponible.
Plus de 15 ans d'expérience dans les systèmes de pulvérisation cathodique et de revêtement sous vide
Haute fiabilité et performances éprouvées dans les instituts de recherche mondiaux
Équipe technique professionnelle pour une conception personnalisée et une assistance sur site
Livraison rapide et service OEM/ODM flexible
Production et assurance qualité certifiées ISO
CoaterFilm est votre partenaire de confiance pour les équipements de précision pour couches minces et les solutions électriques.
Laboratoire de matériaux de l'université XYZ – Alimentation CC de 10 kW intégrée à une coucheuse par pulvérisation cathodique à double cathode, taux de dépôt amélioré de 25 %.
OptoTech Inc. – Unité haute puissance de 40 kW utilisée dans la ligne de revêtement optique, fonctionnement 24h/24 et 7j/7 avec zéro panne en 18 mois.
(Plus de cas de candidature disponibles sur demande.)
Garantie : 12 mois de couverture standard
Support technique : assistance par e-mail 24h/24 et 7j/7 et diagnostics à distance
Pièces de rechange : composants en stock pour un remplacement rapide
Manuels et ressources : téléchargez des fiches techniques détaillées et des manuels d'utilisation
CoaterFilm Vacuum Technology Co., Ltd.
Fabricant leader d'équipements de revêtement sous vide et de systèmes de pulvérisation.
Série d'alimentations certifiées ISO 9001 et approuvées CE.
